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軟膠囊內(nèi)容物均質(zhì)膠體磨

簡要描述:軟膠囊內(nèi)容物均質(zhì)膠體磨
用于實驗室的分散、混合、乳化、均質(zhì)、溶解。可在真空或壓力的工況下,通過玻璃釜觀察整個對物料進行的攪拌、均質(zhì)、乳化、分散、混合等的反應過程。
可同時測量物料的溫度、壓力、粘度、PH等。也可對物料進行加熱或冷卻。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2021-06-22
  • 訪  問  量:859

產(chǎn)品分類

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詳細介紹

品牌其他品牌每次處理量范圍0-10kg
功率55kW應用領域食品,化工,能源,制藥,汽車

軟膠囊內(nèi)容物均質(zhì)膠體磨

一、制備軟膠囊內(nèi)容物的分散問題

由軟膠囊內(nèi)容物的性質(zhì)可以看出,制備得到穩(wěn)定性和溶解度好的混懸劑,長時間放置不分層的狀態(tài),所以粉體的分散程度是尤為重要的。油性內(nèi)容物分散需要加入合適的表面活性劑來進行輔助。

二、影響內(nèi)容物混懸液穩(wěn)定性的因素

助懸劑:助懸劑作為溶解稀釋劑與助懸劑,是典型的模式化軟膠囊制備配伍,從設備角度來講,影響研磨的效果和磨頭的形式、剪切速率、齒形結構、物料在磨頭受到剪切的時間、循環(huán)的次數(shù)、都有著很大的關系。

溫度的高低、處理的時間、研磨、分散、均質(zhì)設備的選擇也是很重要的。我司高剪切研磨分散設備專注于解決分散、均質(zhì)、混合、研磨等各項難題。我司超高速膠體磨研磨的微細及同樣粘厚又流態(tài)好、不分層,良好的穩(wěn)定性。

三、化爍機械改良型膠體磨設備介紹

化爍機械改良型膠體磨是由HSM2000系列膠體磨和HSRS2000系列分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

Di yi 級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

改良型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

改良型膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

 

化爍機械錐體磨:結構為三道磨碎區(qū),為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨。同時配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的磨頭型轉子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蝕。

 

四、設備選型表:

以下為型號表供參考:

軟膠囊內(nèi)容物均質(zhì)膠體磨

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